RF Gaz Deşarjlarının ve Termiyonik Vakum Ark (TVA) Bakır Metal Plazmalarının Optiksel Çok Kanallı Analizör (OMA) Kullanılarak Plazma Karakteristiklerinin Belirlenmesi

Yükseköğretim Kurumları Destekli Proje, 2003 - 2006

Proje Türü: Yükseköğretim Kurumları Destekli Proje
Başlama Tarihi: Ocak 2003
Bitiş Tarihi: Ocak 2006

Proje Özeti

Plazmadan yayınlanan (emisyon) radyasyonun analizlerini gerçekleştirilecek plazma karakterizasyonu için tamamen bilgisayarla kontrol edilebilen spektroskobik veriler alınarak değerlendirilecek ve elde edilecek spektral bilgiler plazmadaki verileri bulmak için kullanılacaktır. Projeye göre diagnostik sistem plazmanın araştırılan bölgesini tanımlamak için hareketli ışık toplayıcısıyla sağlanacaktır. Spektrum, laboratuar içerisine her yere gidebilen bir optik fiber kullanılarak plazma kaynağına birleştirilen OMA (Optical Multichannel Annalyzer) kullanılarak kaydedilecektir. Elde edilen spektrumlar zaman ve konum çözümlü olacak ve bilgisayarda doğrudan bu veriler toplanacaktır. Spektrumun bilgisayarla işlenerek çözümlenme programı plazmanın tanımlanan noktasından bilgileri elde etmeyi sağlayacaktır. Kullanılacak OMA, plazmanın incelenmesi yanında zaman değişimiyle de veriler elde edilecektir. Projede yapılması düşünülen sistem tamamlandığında, Osmangazi Üniversitesi Fen-Edebiyat Fakültesi Fizik Bölümündeki Plazma Fiziği laboratuarında aşağıda listelenen araştırma deneylerinde kullanılacaktır ve bu deneyler sonucu elde edilen veriler değerlendirilecektir.

1- 13.56 MHz RF güç kaynağı ile oluşturulan RF düzlem plazma sistemi ve RF Akan Plazma Sistemlerinde oluşturulan saf gaz ( Argon, Oksijen, Hidrojen, Azot, Helyum, Neon) plazmasının OMA cihazı ile spektral verileri elde edilecek ve bu veriler Bilgisayarlı kontrol sistemi kullanılarak oluşturulan plazmanın karakterizasyonu gerçekleştirilecektir. 2- Laboratuarımızda bulunan ve tamamı ile kendimizin yaptığı TVA (Termiyonik Vakum Ark) sistemi ile üretilecek metal buhar plazmasının spektral emisyonu OMA ( Optiksel Çok Kanallı Analizör) cihazı kullanılarak elde edilecek, bunların sonucunda ise elektron sıcaklığı bulunacaktır. Ayrıca TVA sistemi kullanılarak yapılan cam üzerine metal kaplamalar (Bakır Metalinin) yapılırken OMA ile spektral verilerin değerlendirilecek ve en ideal kaplama şartları belirlenecektir. Bu şartlarda cam taban üzerine oluşturulan kaplamanın kalınlığı belirlenecek böylece oluşturulan ince filmin kalınlığı kullanılarak TVA cihazı için önemli bir parametre olan Depolama oranının (ince film kalınlığı/saniye cinsinden) belirlenecektir. Böylece istenilen kalınlıkta metal ince film üretimi gerçekleştirilebilecektir.