Rf saçtırma yöntemi kullanarak hazırlanan SiO2 ince filmlerinin bazı özelliklerinin incelenmesi
I. ulusal metal, yarıiletken ve oksit materyallerin üretiminde kullanılan sistemler ve analiz teknikleri kongresi, Türkiye, 15 - 16 Haziran 2009, (Özet Bildiri)
- Yayın Türü: Bildiri / Özet Bildiri
- Basıldığı Ülke: Türkiye
- Eskişehir Osmangazi Üniversitesi Adresli: Evet