Rf manyetik sıçratma yöntemiyle üretilen bakır oksit, bakır nitrit ve bakır oksinitrit ince filmlerin bazı kristal yapı ve optiksel özelliklerinin incelenmesi

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Eskişehir Osmangazi Üniversitesi, FEN BİLİMLERİ ENSTİTÜSÜ, FİZİK ANABİLİM DALI, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2018

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: BİROL GEÇİCİ

Danışman: ŞADAN KORKMAZ

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Bu tez çalışmasının amacı, RF Sıçratma yöntemi ile cam alttaş üzerine reaktif/taşıyıcı gaz oranlarını değiştirerek bakır oksit, bakır nitrit ve bakır oksinitrit ince filmleri üretmek, karakterizasyonlarını yaparak kullanım alanlarının temelini oluşturmaktır. Alttaş malzeme olarak yalıtkan ve şeffaf materyallerden olan cam kullanılmıştır. İnce film üretimleri her alttaş için tek katman olarak 14 ayrı deney olarak gerçekleştirilmiştir. Deney parametreleri reaktif gaz/gazlar ve taşıyıcı gaz oranları hariç tüm üretimler için sabit tutulmuştur. Reaktif gaz oranları bakır oksit ve bakır nitrit için %10, 30, 50, 70 ve 90 olarak belirlenmiştir. Bakır oksinitrit için iki reaktif gaz oranı da %15, 25, 35 ve 45 olarak belirlenmiştir. Üretilen bakır oksit, bakır nitrit ve bakır oksinitrit ince filmlerin yapısal, yüzeysel ve optiksel özellikleri uygun ölçüm teknikleri ile belirlenmiştir. İnce film tabakaların kalınlıkları Filmetrics F20 cihazı tarafından 85-200 nm arasında ölçülmüştür. XRD ölçümleri sonucunda üretilen ince filmlerin kristal yapıları tespit edilmiştir. Tauc yöntemi kullanılarak optiksel yasak enerji aralıkları belirlenmiştir ve doğrudan band geçişli oldukları görülmüştür. Üretilen ince filmlerin yasak enerji aralıkları en düşük 1,49 eV ile en yüksek 1,78 eV. arasında değişmektedir. Atomik kuvvet mikroskobu yüzey özellikleri incelendiğinde üretimlerin pürüzsüz ve simetrik yapıda oldukları tespit edilmiştir.