Opto-elektronik uygulamalarda kullanılabilecekm katkısız ve Al katkılı ZnO filmlerinin üretilmesi
Tezin Türü: Yüksek Lisans
Tezin Yürütüldüğü Kurum: Eskişehir Osmangazi Üniversitesi, FEN BİLİMLERİ ENSTİTÜSÜ, FİZİK ANABİLİM DALI, Türkiye
Tezin Onay Tarihi: 2014
Tezin Dili: Türkçe
Öğrenci: GÖKSU ÖFÖFOĞLU
Danışman: Sema Kurtaran
Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
Özet:Günümüzde teknolojik araştırmalar; maliyeti düşük, iyi kalitede ve lüminesans verimi iyileştirilmiş alternatif ZnO yarıiletken filmleri üzerine odaklanmış durumdadır. Bu çalışmada, farklı oranlarda Al katkılı ZnO filmlerinin üretilmesi ve elde edilen filmlerin elektrik, optik, yapısal, yüzeysel ve lüminesans özelliklerinin incelenmesi amaçlanmıştır. Bu amaçla, ZnO filmleri diğer pek çok üretim yöntemi ile kıyaslandığında daha ekonomik ve uygulaması kolay olan ultrasonik kimyasal püskürtme yöntemi ile 35050C taban sıcaklığında ve üç farklı Al katkı oranında üretilmiştir. ZnO:Al filmlerinin kristal yapısı ve tercihli yönelimleri gibi yapısal özellikleri, x-ışını toz kırınım tekniği kullanılarak incelenmiştir. ZnO:Al filmlerinin kalınlıkları ve optik sabitleri Spektroskopik Elipsometri ile belirlenmiştir. UV-VIS spektrofotometre cihazı ile filmlerin geçirgenlik ve soğurma spektrumları alınmıştır ve optik bant aralıkları hesaplanmıştır. Filmlerin yüzey morfolojileri atomik kuvvet mikroskobu ile ve lüminesans özellikleri ise Floresans Spektrometre Cihazı ile incelenmiştir. Sonuç olarak, ekonomik ve kolay olarak üretilebilen ZnO:Al filmlerinin opto-elektronik uygulamalarda kullanım potansiyeli araştırılmıştır.