Düşük basınçta ayrı bir post deşarj odasına akıtılan plazmaların incelenmesi


Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Eskişehir Osmangazi Üniversitesi, FEN BİLİMLERİ ENSTİTÜSÜ, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2015

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: YASİN YUNUS EREN

Danışman: Tamer Akan

Özet:

Düşük basınçta ayrı bir post – deşarj odasına akıtılan Gaz Deşarj Plazmaları incelenmiştir. Bunun için birbirine paslanmaz çelik flanş ile bağlanmış iki adet cam reaktör kullanılmıştır. Reaktörlerden birincisi "Deşarj Odası", ikincisi ise "Post – Deşarj" olarak adlandırılmıştır. Deşarj odasında sabit elektrotlar arasında farklı gazların 18 kV – 15kHz A.C. güç kaynağı kullanılarak deşarjları üretilmiştir. Bu deşarjlar bir vakum pompası yardımıyla post – deşarj odasına (ikinci reaktör) akıtılarak Post – Deşarj Plazmalar ayrı bir reaktörde üretilmiştir. Deşarj ve Post - deşarj üretmek için gaz olarak Hava, Helyum, Argon ve Oksijen kullanılmıştır. Üretilen her bir gazın post – deşarjı, post – deşarj odasında farklı noktalarda Optik Emisyon Spektroskopisi (OES) ile incelenmiştir. Tüm deneylerde gaz akış hızı, elektrotlar arasına uygulanan voltaj ve elektrotlar arası uzaklık parametreleri sabit tutulmuştur. Bu parametreler sabit tutulurken basınç değişimi ile post deşarj oluşumu incelenmiştir. Bununla birlikte deşarj oluşumu için koşullar sabit kalırken, yalnızca post – deşarjın farklı noktalarında spektroskopik analiz yapılmıştır. Post – deşarjın, deşarja yakın kısmı Erken post – deşarj, deşarja uzak kısmı da Geç post – deşarj olarak adlandırıldı. Bu şekilde Erken, Orta ve Geç post – deşarjın spektroskopik analizi yapıldı. Ayrıca fotoğraflama tekniği ile de üretilen deşarjların ve post – deşarjların yapısal değişimi incelenmiştir. Bununla birlikte Helyum, Argon, Oksijen gazları için post – deşarj oluşum koşulları elde edilmiştir.