Termiyonik vakum ark (TVA) tekniği ile üretilen In, Si, Ge, B ve Cr katkılı ZnO ince filmlerin bazı özellikleri

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Eskişehir Osmangazi Üniversitesi, FEN BİLİMLERİ ENSTİTÜSÜ, FİZİK ANABİLİM DALI, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2018

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: REZA MOHAMMADIGHAREHBAGH

Danışman: SUAT PAT

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Bu tez çalışmasında, reaktif olmayan termiyonik vakum ark tekniği ile farklı alttaşlar üzerine katkılı ZnO ince filmler üretildi. Alttaş malzeme olarak cam ve polietilen tereftalat (PET) tercih edilmiştir. Bu alttaşlar yalıtkan ve şeffaf malzeme olarak bilinirler. Bu çalışmada katkılı ZnO ince filmleri elde etmek için her alttaş için 5 ayrı deney ve toplamda 10 ayrı deney yapıldı. Deney sürecinde tüm belirlenen ve önemli parametreleri belirlendi. Kullanılan analiz teknik ve cihazları ile elde edilen katkılı ZnO ince filmlerin yapısal, optiksel ve yüzey özellikleri incelenmiştir. Üretilen katkılı ZnO ince filmlerin kalınlıkları Filmetrics F20 cihazı vasıtasıyla 10-28 nm arasında ölçülmüştür. Hazırlanan örneklerin kristal boyutlarının hesaplama sonucunda değerler 10 nm ve 28 nm arasında değişim göstermektedir. Optiksel analizler sonucunda, elde edilen soğurma değerlerine göre Tauc yöntemi uygulayarak optiksel yasak enerji (Eg) aralıkları hesaplanmıştır. Yaptığım çalışmada, hazırlanan ince filmlerin Eg aralıkları en düşük Si katkılı ZnO (3,2 eV) ve en yüksek Cr katkılı ZnO'e (3,9 eV) aittir. Yüzey özellikleri incelemek için atomik kuvvet mikroskobu ve alan emisyonlu elektron mikroskobu cihazları kullanılmıştır. Yüzey analiz sonuçlarına göre PET alttaşlar üzerine biriktirilen numunelerin daha pürüzsüz ve simetrik yapıda oldukları tanımlanmıştır.