Exploiting Lithography Limits for Hardware Security Applications

Khan R. S., Noor N., Jin C., Muneer S., DİRİSAĞLIK F., Cywar A., ...Daha Fazla

The 19th IEEE International Conferenceon Nanotechnology IEEE-NANO 2019, Macau SAR, Çin, 22 - 26 Temmuz 2019, ss.9-12, (Tam Metin Bildiri)

• Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
• Doi Numarası: 10.1109/nano46743.2019.8993902
• Basıldığı Şehir: Macau SAR
• Basıldığı Ülke: Çin
• Sayfa Sayıları: ss.9-12
• Eskişehir Osmangazi Üniversitesi Adresli: Evet